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美國正在推動荷蘭ASML禁止向中國銷售DUV光刻機，從而阻止中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起。媒體表示，如果ASML同意，這將繼續(xù)擴大禁止進入中國的芯片制造設(shè)備的范圍和類別，這可能對從中國芯片制造商造成嚴(yán)重打擊。
但是據(jù)了解，國產(chǎn)DUV光刻機產(chǎn)品很快就能成批推出、規(guī)模采用。上海微電子研發(fā)出的28納米國產(chǎn)光刻機整機已經(jīng)安排生產(chǎn)，再過一兩年一定能用于國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)，而且，按中芯國際梁孟松在2020年就說到的，一定能用于規(guī)模量產(chǎn)7納米芯片，而且良品率還能達到業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)吧，梁孟松當(dāng)時說的是只有制造5、3納米的芯片才“只待”、也就是只需EUV光刻機，梁孟松的話自然是可信的。
放眼未來，半導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè)鏈的可靠性和安全性都值得懷疑，國內(nèi)應(yīng)該引起足夠重視。
