8月1日，淄博市生態(tài)環(huán)境局受理并公示山東重山光電材料股份有限公司高純二氟化氙項目，具體項目情況如下：

項目名稱：高純二氟化氙項目；

建設(shè)單位：山東重山光電材料股份有限公司；

建設(shè)性質(zhì)：新建；

建設(shè)地點(diǎn)：山東省淄博市淄川區(qū)電子產(chǎn)業(yè)園重山光電現(xiàn)有廠區(qū)內(nèi)；

項目投資：總投資1500萬元，其中環(huán)保投資60萬元；

建設(shè)內(nèi)容：項目依托現(xiàn)有閑置廠房，分兩期建設(shè)，一期生產(chǎn)高純二氟化氙1噸/年；二期建設(shè)規(guī)模2噸/年。

建設(shè)周期：一期計劃開工時間2024年6月，計劃投產(chǎn)時間2025年6月，二期計劃開工時間2026年3月，計劃投產(chǎn)時間2027年3月。

山東重山光電材料股份有限公司成立于2015年，主營業(yè)務(wù)包括光電信息材料、鋰電池材料、特種功能氟碳材料（氟化石墨、氟化石墨烯系列材料）、石墨及石墨烯衍生材料、含氟系列電子材料、其它半導(dǎo)體制程材料、穩(wěn)定同位素材料、環(huán)保技術(shù)及產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)及銷售。

二氟化氙（XeF2）是非常良好的氟化試劑和電子蝕刻氣體，其氟化性比較溫和，又比較穩(wěn)定，操作安全，而且反應(yīng)物的產(chǎn)率高，是一種選擇性很好的氟化試劑，在無機(jī)氟化物制備及有機(jī)合成中有廣泛的應(yīng)用；二氟化氙在電子工業(yè)中作為蝕刻氣體，可用于各向同性蝕刻Si、Mo和Ge，是蝕刻犧牲層以“釋放”MEMS器件內(nèi)移 動組件的理想解決方案。是氟化工產(chǎn)業(yè)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，符合重點(diǎn)監(jiān)控點(diǎn)發(fā)展規(guī)劃。